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半导体巨头获光刻机,购买光刻机成了关键,但我们先在其它领域进行突破

发布来源:互联网    发布时间:2021-04-16 14:25

我国的芯片产业虽然在上个世纪就已经在布局,但是一直以来并没有达到世界先进水平,直到华为的麒麟980出来为止,才开始有了些眉目。但如果说是自己独立设计制作,不依靠国外技术的话,那么也就只剩下龙芯了,所以我国的芯片之路还有很远的路要走。

半导体巨头获光刻机,购买光刻机成了关键,但我们先在其它领域进行突破(图1)

光刻机是生产芯片的核心设备,难度最高

要将这条路走出来,光刻机的问题就必须解决,否则再优秀的作品,依旧要交由台积电或者三星来代工,所以也就只有自己去造光刻机了。但是行业的人都知道,光刻机是芯片产业中最难制造的设备。

不少专家已经明确表示过,一个国家能够独立制造出最先进的光刻机,说明这个国家在光学、力学、材料学等各个科学领域至少都是世界前三的存在,所以即使是ASML,80%以上的部件都只能进口。

历史上曾经短暂出现过这么一个国家,能够独立制造出世界最优秀的光刻机,他就是上个世纪七八十年代的。那个时候的半导体产业全面领先M国,当之无愧的世界第一,但那时的芯片最好也才155nm。

半导体巨头获光刻机,购买光刻机成了关键,但我们先在其它领域进行突破(图2)

光刻机不仅能生产芯片,还是一个检测台

光刻机技术虽难,可一旦研发出来,能带来的收益也是相当可观的。因为不仅有台积电、中芯国际、三星这样的芯片代工厂会用到它,涉及到芯片制作过程中所需的材料也需要光刻机去验证。

比如光刻胶这一再光刻机上使用的材料,芯片的制作难度越高,对光刻胶的要求也就越高。如何判断光刻胶是否满足芯片制作的需求,利用光刻机来检验再好不过,所以他们就不得不去购买光刻机。

遗憾的是,光刻胶这一对于芯片生产极其重要的材料,同大多数核心设备一样,普通的我们什么都会,先进的却不得不依靠进口。则是在光刻胶中获益最大的国家,如何解决光刻胶难题?购买光刻机成了关键。

半导体巨头获光刻机,购买光刻机成了关键,但我们先在其它领域进行突破(图3)

半导体巨头获光刻机,光刻胶有望

国内从事光刻胶生产的企业不多,最为拔尖的就是晶瑞股份,他们的光刻胶长期停留在56nm到68nm这一阶段,也只能为这一工艺制程的芯片服务,但市场上这样的芯片早就进入了一个淘汰、剔除的阶段。

如何将购得光刻机是光刻胶能够顺利突破到28nm的级别,是他们面临的难题。只有这样,光刻胶的业务才能在28nm的市场上找到转机,经过多次的协商以及谈判,晶瑞股份终于买到了一台ASMLXT1900Gi型光刻机。

半导体巨头获光刻机,购买光刻机成了关键,但我们先在其它领域进行突破(图4)

为迎接这一台光刻机的到来,晶瑞股份还专门举办了一个揭牌仪式,它就如同一台验证的机器,在晶瑞股份的光刻胶突破到28nm阶中可以给足相当大的提示,帮助他们迅速得到预期的突破。

我国正在全力突破光刻机难题

至于光刻机方面,这本是一个连接的世界,我国想要靠自己的力量,在短期内打造出世界最为先进的光刻机这本就是异想天开,寻求国际合作加速进程才是最为高效地办法。

据悉,世界光刻机巨头之一,曾经的世界第一尼康,已经就光刻机的问题与我国展开了深入合作,在不少人以为尼康颓废的时候,它此次明显就有一种重回巅峰的气势,决心也是相当坚定。

光刻机不能一朝一夕促成,但我们先在其它领域进行突破,各行各业额人都行动起来,芯片的问题要解决,也就没有那么难了。当我们什么都会的时候,难道他们还敢拿光刻机限制我们不成?

半导体巨头获光刻机,购买光刻机成了关键,但我们先在其它领域进行突破(图5)

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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